Page 11 - Chalcogenide Glasses for Infrared Optics
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x Co n t e n t s
9.8 Production of GaAs at AMI . . . . . . . . . . . . . . 231
9.9 Horizontal Bridgman Production of GaAs
Plates at AMI . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 233
References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 243
10 Early Work at Texas Instruments . . . . . . . . . . . . . . . 245
10.1 First Job . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 245
10.2 Infrared Applications to Materials . . . . . . . . 245
10.3 Optical Interference and Film Thickness . . . 247
10.4 The Infrared Scan Technique for Epitaxial
Film Thickness . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 248
10.5 Elliptical Polarization of Light
on Reflection . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 252
10.6 Measuring the Elliptical Polarization
Angles y and D . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 255
10.7 Ellipsometers Used at TI . . . . . . . . . . . . . . . . . 259
10.8 Infrared Ellipsometry . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 259
10.9 The TI Automatic Ellipsometer System . . . . 264
10.10 Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 269
References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 270
Index . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 271
