Page 235 - Academic Press Encyclopedia of Physical Science and Technology 3rd Polymer

P1: GOJ/GOI/LCC/HAR P2: GOJ Final Pages
Encyclopedia of Physical Science and Technology en012K-946 July 26, 2001 11:14

744 Polymers, Photoresponsive

Mater. 10, 3328; Allen, R. D., Sooriyakumaran, R., Opitz, J., J. Photopolymer Sci. Technol. 12, 525; Houlihan, F. M., Rushkin,
Wallraff, G., DiPietro, R., Breyta, G., Hofer, D., Kunz, R. R., I. L., Hutton, R. S., Timko, A. G., Reichmanis, E., Nalamasu,
Jayaraman, S., Shick, R., Goodall, B., Okoroanyanwu, U., and O., Gabor, A. H. Medina, A. N., Malik, S., Neisser, M., Kunz,
Willson, C. G. (1996). Proc. SPIE 2724, 334; Varanasi, P. R., R. R., and Downs, D. K. (1999). Proc. SPIE 3678, 264; Houlihan,
Maniscalco, J., Mewherter, A. M., Lawson, M. C., Jordhamo, G., F. M., Rushkin, I. L., Hutton, R. S., Timko, A. G., Reichmanis, E.,
Allen, R., Opitz, J., Ito, H., Wallow, T. I., Hofer, D., Langsdorf, Nalamasu, O., Gabor, A. H., Medina, A. N., Malik, S., Neisser,
L., Jayaraman, S., and Vicari, R. (1999). Proc. SPIE 3678(5), M., Kunz, R. R., and Downs, D. K. (1999). “Proc. Interface 1999,”
l–63; Wallow, T. I., Brock, P., DiPietro, R., Allen, R., Opitz, J., Arch. Microlithographic Symposium, Nov. 14–16, p. 133.
Sooriyakumaran, R., Hofer, D., Meute, J., Byers, J., Rich, G., 125. MacDonald, S. A., Clecak, N. J., Wendt, H. R., Willson, C. G.,
McCallum, M., Schuetze, S., Jayaraman, S., Hullihen, K., Vicari, Snyder, C. D., Knors, C. J., Deyoe, N. B., Maltabes, J. G., Morrow,
R., Rhodes, L., Goodall, B., and Shick, R. (1998). Proc. SPIE J. R., McGuire, A. E., and Holmes, S. J. (1991). Proc. SPIE 1466,
3333, 92. 2; Nalamasu, O., Reichmanis, E., Cheng, M., Pol, V., Kometani,
113. Houlihan, F. M., Wallow, T. I., Nalamasu, O., and Reichmanis, E. J. M., Houlihan, F. M., Neenan, T. X., Bohrer, M. P., Mixon, D. A.,
(1997). Macromolecules 30, 6517; Wallow, T. I., Houlihan, F. M., Thompson, L. F. (1991). Proc. SPIE 1466, 13; MacDonald, S. A.,
Nalamasu, O., Chandross, E. A., Neenan, T. X., and Reichmanis, Hinsberg, W, D., Wendt, R. H., Clecak, N. J., Willson, C. G.,
E. (1996). Proc. SPIE 2724, 355. and Snyder, C. D. (1993). Chem. Mater. 5, 348; Hinsberg, W, D.,
114. Potter, G. H., and Zutty, N. L. (1966). U.S. Patent 3,280,080. MacDonald, S. A., Clecak, N. J., and Snyder, C. D. (1994). Chem.
115. Ito, H., Allen, R. D., Opitz, J., Tom, I., Wallow, T. I., Truong, Mater. 6, 481.
H. D., Hofer, D. C., Varanasi, P. R., Jordhamo, G. M., Jayaraman, 126. Asakawa, K., Ushiroguchi, T., and Nakase, N. (1995). Proc. SPIE
S., and Vicari, R. (2000). Proc. SPIE 3999, 2. 2438, 563.
116. Patterson, K., Okoroanyanwu, U., Shimokawa, T., Cho, S., Byers, 127. Hinsberg, W., Houle, F., Sanchez, M., Morrison, M., Wallraff, G.,
J., and Willson, C. G. (1998). Proc. SPIE 3333, 425; Rushkin, Larson, C., Hoffnagle, J., Brock, P., and Breyta, G. (2000). Proc.
I. L., Houlihan, F. M., Kometani, J. M., Hutton, R. S., Timko, SPIE 3999, 148.
A. G., Reichmanis, E., Nalamasu, O., Gabor, A. H., Medina, A. N., 128. Houlihan, F. M., Kometani, J. M., Timko, A. G., Hutton, R. S.,
Slater, S. G., and Neisser, M. (1999). Proc. SPIE 3678, 44; Allen, Cirelli, R. A., Reichmanis, E., Nalamasu, O., Gabor, A. H.,
R. D., Optiz, J., Ito, H., Wallow, T. I., Casmier, C. E., Larson, Medina, A. N., Biafore, J. J., and Slater, S. G. (1998). Proc.
R., Sooriyakumaran, R., Hofer, D. C., and Varanasi, P. R. (1999). SPIE 3333, 73; Houlihan, F. M., Kometani, J. M., Timko, A. G.,
J. Photopolymer Sci. Technol. 12(3), 501; Jung, J.-C., Bok, C.-K., Hutton, R. S., Cirelli, R. A., Reichmanis, E., Nalamasu, O., Gabor,
and Baik, K.-H. (1998). Proc. SPIE 3333, 11; Klopp, J. M., A. H., Medina, A. N., Biafore, J. J., and Slater, S. G. (1998).
Pasini, D., Frechet, J. M. J., and Byers, J. D. (2000). Proc. SPIE J. Photopolymer Sci. Technol. 11(3), 419.
3999, 23; Park, J.-H., Kim, J.-Y., Seo, D.-C., Park, S.-Y., Lee, H., 129. Padmanaban, M., Bae, J.-B., Cook, M., Kim, W.-K., Klauck-
Kim, S.-J., Jung, J.-C., and Baik, K.-H. (2000). Proc. SPIE 3999, Jacobs, A., Kudo, T., Rahman, M. D., and Dammel, R. R. (2000).
1163. Proc. SPIE 3999, 1136.
117. Domke, W. D., Graffenberg, V. L., Patel, S., Rich, G. K., Cao, 130. Burggraaf, P. (2000). Solid State Technol. 43(1), 31; Rothschild,
H. B., and Nealey, P. F. (2000). Proc. SPIE 3999, 313. M., Bloomstein, T. M., Fedynyshyn, T. H., Kunz, R. R., Liberman,
118. Neisser, M., Kocab, T., Beauchimin, B., Sarubbi, T., Wong, S., and V., and Switkes, M. (2000). J. Photopolymer Sci. Technol. 13(3),
Ng, W. (2000). “Proc. Interface 2000,” Arch. Microlithographic 369.
Symposium, Nov. 5–7, p. 43. 131. Kunz, R. R., Bloomstein, T. M., Hardy, D. E., Goodman, R. B.,
119. Allen, R. D., Wan, I. Y., Wallraff, G. M., DiPetro, R. A., Hofer, Downs, D. K., and Curtin, J. E. (1999). Proc. SPIE 3678, 13;
D., and Kunz, R. R. (1995). J. Photopolymer Sci. Technol. 8, 623. Fedynyshyn, T. H., Kunz, R. R., Doran, S. P., Goodman, R. B.,
120. Houlihan, F. M., Wallow, T., Timko, A., Neria, E., Hutton, R. S., Lind, M. L., and Curtin, J. E. (2000). Proc. SPIE 3999, 335.
Cirelli, R. A., Nalamasu, O., and Reichmanis, E. (1997). Proc. 132. Kunz, R. R., Downs, D. K., Fedynyshyn, T. H., Sinta, R., and
SPIE 3049, 84; Houlihan, F. M., Wallow, T. I., Timko, A. G., Neria, Sworin, M. (2000). “Proc. of the First Int. Symp. on 157-nm
E., Hutton, R. S., Cirelli, R. A., Kometani, J. M., Nalamasu, O., Lithography,” Dana Point, CA, May 8–11, p. 635.
and Reichmanis, E. (1997). J. Photopolymer Sci. Technol. 10, 511. 133. Patterson, K., Yamachika, M., Hung, R., Brodsky, C., Yamada,
121. Yan, Z., Houlihan, F. M., Reichmanis, E., Nalamasu, O., Reiser, S., Somervell, M., Osborn, B., Hall, D., Dukovic, G., Byers, J.,
A., Dabbagh, G., Hutton, R. S., Osei, D., Sousa, J., and Bolan, Conley, W., and Willson, C. G. (2000). Proc. SPIE 3999, 365;
K. (2000). Proc. SPIE 3999, 127; Dabbagh, G., Houlihan, F. M., Chiba, T., Hung, R. J., Yamada, S., Trinque, B., Yamachika, M.,
Rushkin, I, Hutton, R. S., Nalamasu, O., Reichmanis, E., Yan, Z., Brodsky, C., Patterson, K., Heyden, A. V., Jamison, A., Lin, S.-H.,
and Reiser, A. (2000). Proc. SPIE, 3999, 120; Houlihan, F. M., Somervell, M., Byers, J., Conley, W., and Willson, C. G. (2000).
Dabbagh, G., Rushkin, I. L., Hutton, R. S., Osei, D., Sousa, J., J. Photopolymer Sci. Technol. 13(3), 657.
Bolan, K., Nalamasu, O., Reichmanis, E., Yan, Z., and Reiser, A. 134. Schmaljohann, D., Bae, Y. C., Dai, J., Weibel, G. L., Hamad,
(2000). J. Photopolymer Sci. Technol. 13, 569; Houlihan, F. M., A. H., and Ober, C. K. (2000). J. Photopolymer Sci. Technol. 13(3),
Dabbagh, G., Rushkin, I. L., Hutton, R. S., Osei, D., Sousa, J., 451; Bae, Y. C., Schalmjohann, D., Hamad, A. H., Dai, J., Weibel,
Bolan, K., Nalamasu, O., and Reichmanis, E. (2000). Chem. G. L., Yu, T., and Ober, C. K. (2000). “Proc. of the First Int. Symp.
Mater. 12(11), 3516. on 157-nm Lithography, Dana Point, CA, May 8–11, p. 727.
122. Allen, R. D., Opitz, J., Larson, C. E., Wallow, T. I., DiPietro, 135. Crawford, M. K., Feiring, A. E., Feldman, J., French, R. H.,
R. A., Breyta, G., Sooriyakumaran, R., and Hofer, D. C. (1997). Periyasamy, M., Schadt F. L., III, Smalley, R. J., Zumsteg, F. C.,
J. Photopolym. Sci. Technol. 10(4), 503. Kunz, R. R., Rao, V., and Holl, S. M. (2000). Proc. SPIE 3999, 357.
123. Kunz, R. R., and Downs, D. K. (1999). J. Vac. Sci. Technol. 17(6). 136. Matsuzawa, N. N., Mori, S., Yano, E., Okazaki, S., Ishitani, A.,
124. Houlihan, F. M., Rushkin, I. L., Hutton, R. S., Timko, A. G., and Dixon, D. A. (2000). Proc. SPIE 3999, 375.
Reichmanis, E., Nalamasu, O., Gabor, A. H., Medina, A. N., 137. Willson, C. G. (2000). “Proc. Interface 2000,” Arch. Microlitho-
Malik, S., Neisser, M., Kunz, R. R., and Downs, D. K. (1999). graphic Symposium, Nov. 5–7, p. 135.